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[期刊论文] 作者：Lee.,TG,盛劢冲,
来源：电子工业专用设备 年份：2000
分别论述了曝光照明配合和了工艺产生的场内套准误差。在当前的光学工艺中，变形照明技术（如环形照明、四极照明及小σ孔径照明技术）被广泛用来拓展光学光刻的实用极限，同时，同时，由......
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