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[期刊论文] 作者：梶原康也,管怌凯,,
来源：半导体情报 年份：1975
一、前言平面工艺在半导体硅器件的制造中是一项特别重要的技术,它在小功率晶体管、闸流管和集成电路等方面得到了广泛的应用。平面器件的一个特点是,其P-N结的曝露部分都用...
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