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[学位论文] 作者：肖昭强,,
来源：南昌大学 年份：2014
硅化钛兼具低电阻率、耐高温及稳定性好等优点，广泛应用在集成电路和高温材料等领域。本文以TiCl4-SiH4-N2为反应体系，在玻璃基板上常压化学气相沉积法（APCVD）制备得硅化钛薄膜。......
[期刊论文] 作者：杜军,肖昭强,李不悔,吴其,刘娇,,
来源：南昌大学学报(工科版) 年份：2013
概述了Ti5Si3的物理结构和化学性质,展现出其熔点高、密度低、电阻率低、硬度高、高温强度大、抗高温氧化性能好和化学性质稳定等性质。对Ti5Si3合金材料及其薄膜的固固、固...
[期刊论文] 作者：黄晶晶,杜军,余雁斌,李不悔,肖昭强,傅华强,吴其,刘娇,郑典模,邹建国,,
来源：无机盐工业 年份：2013
采用溶胶-凝胶法,以硝酸铵为氮源,制备了氮掺杂二氧化钛薄膜,通过紫外可见吸收光谱(UV-VIS)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线衍射(XRD)对氮掺杂二氧化钛进...
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