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[期刊论文] 作者：武彩霞,刘玉岭,牛新环,康海燕,苏艳勤,,
来源：微纳电子技术 年份：2010
针对多层Cu布线化学机械抛光后去除表面吸附颗粒时难以解决的氧化腐蚀问题，分析了颗粒在抛光后Cu表面上存在的两种吸附状态即物理吸附和化学吸附。采用在清洗剂中加入非离子表......
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