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[会议论文] 作者：宋忠孝[1],徐可为[2],范多旺[3],
来源：TFC'2005全国薄膜技术学术研讨会 年份：2005
用射频磁控反应溅射法在Si(111)单晶基体上沉积ZrN扩散阻挡层,随后在其上分别用直流脉冲平衡磁控溅射(BMS)和非平衡磁控溅射(UBMS)沉积Cu膜.用XRD分析Cu膜的结构,AES分析...
[会议论文] 作者：宋忠孝[1],鞠新华[2],徐可为[2],范多旺[3],
来源：TFC'2005全国薄膜技术学术研讨会 年份：2005
用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜.用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度...
[会议论文] 作者：汪渊[1],白宣羽[2],徐可为[2],范多旺[3],
来源：TFC'2005全国薄膜技术学术研讨会 年份：2005
本文运用离散小波变换(DWT)法研究磁控溅射铜钨薄膜表面特征随溅射时间的演变.提出了一种基于小波变换表征生长薄膜表面形貌的方法.结果表明,高频部分引起薄膜表面形貌的...
[会议论文] 作者：郑小平[1],张佩峰[2],范多旺[3],李廉[4],郝远[5],
来源：第二届全国材料计算与模拟学术会议 年份：2007
本文用Kinetic Monte Carlo方法研究了薄膜生长初期的岛核形貌,对激活能的计算采用了更加通用,准确的算法,模型考虑了原子吸附、迁移、脱附、蒸发原子返回基底,二体运动等多...
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