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[期刊论文] 作者：朱昌,米高园,达斯坦科,格拉索夫,扎瓦斯基,,
来源：应用光学 年份：2010
比较了磁控反应溅射(RMS)法与离子束反应溅射(RIBS)法沉积得到的氧化硅薄膜的光学特性,并确定了其对折射率n、消光系数k、沉积速率和混合工作气体Ar/O2中氧含量的依赖性关系...
[期刊论文] 作者：潘永强,朱昌,方勇,斯瓦德科夫斯基,达斯坦科,
来源：真空 年份：2004
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔离子源的工作原理,并论述了端部霍尔离子源的离子能量、离子分布特性的测试方法;详细论述了电磁场和永久磁场两种模式下,端...
[期刊论文] 作者：米高园,朱昌,戚云娟,达斯坦科,格拉索夫,扎瓦斯基,,
来源：应用光学 年份：2011
主要研究采用离子束反应溅射(RIBS)制备SiO2薄膜的折射率、消光系数、化学计量比与氧气在氩氧混合工作气体中含量及其沉积速率的关系。研究结果表明:RIBS制备的SiO2薄膜在0.6...
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