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[期刊论文] 作者：宋晓岚,喻振兴,程蕾,吴长荣,张泰隆,邓大宝,,
来源：中南大学学报(自然科学版) 年份：2010
采用双槽电化学腐蚀法于光照条件下在n型单晶硅片衬底上制备多孔硅（n-PS）;在室温下,采用500~700 nm范围内荧光光谱和扫描电镜（SEM）测试系统研究光照、腐蚀时间、电解液含量、腐蚀......
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