搜索筛选:
搜索耗时0.0858秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 11 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：王守坤, 郭总杰, 袁剑峰, 林承武, 邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2014
对FFS-TFT制作工艺中,与氮化硅膜层接触的透明电极ITO发生的雾状不良进行分析研究.通过扫描电子显微镜、宏观/微观显微镜和背光源测试设备对样品进行分析.结果显示接触层的等...
[期刊论文] 作者：白金超,王玉堂,郭总杰,丁向前,袁剑峰,邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2015
研究了过孔接触电阻变化规律,并进行机理分析,为优化薄膜晶体管的过孔设计提供依据。首先,运用开尔文四线检测法对不同大小、形状、数量的钼/铝/钼结构的栅极和源/漏层金属与...
[期刊论文] 作者：刘晓伟,郭会斌,李梁梁,郭总杰,郝昭慧,,
来源：液晶与显示 年份：2014
纯铝薄膜被广泛用作TFT LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的良率有较大影响.本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管...
[期刊论文] 作者：白金超,张光明,郭总杰,郑云友,袁剑峰,邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2015
研究各膜层对灰化速率的影响,增强对灰化工艺的了解,为四次光刻工艺改善提供参考。采用探针台阶仪测量在相同灰化条件下不同膜层样品的灰化速率和有源层损失量,对结果进行机...
[期刊论文] 作者：张小祥,颉芳霞,刘正,郭总杰,袁剑峰,邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2015
通过对TFT-LCD制造过程中GOA单元不良原因的研究,提出了改善GOA单元不良的方法。分析表明静电放电(ESD)的发生在于电容瞬间释放的电流过大,导致过细的金属线熔化;沟道桥接和...
[期刊论文] 作者：张卫, 王庆浦, 徐佳伟, 曾琴, 谢涛峰, 郭总杰,,
来源：液晶与显示 年份：2019
OGS(One Glass solution)触控显示模组(Touch Panel LCD Module,TLCM)在关机状态下存在边缘黑色光阻(Black Matrix,BM)与可视区色差过大的问题,外观不美观。本文基于此问题,...
[期刊论文] 作者：王守坤,袁剑峰,郭会斌,郭总杰,李升玄,邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2015
本文对TFT在栅极绝缘层和非晶硅膜层沉积过程中,透明电极ITO成分对膜层的污染和TFT电学性质的影响进行分析研究。通过二次离子质谱分析和电学测试设备对样品进行分析。ITO成...
[期刊论文] 作者：刘耀,陈曦,张小祥,刘晓伟,李梁梁,丁向前,郭总杰,袁剑峰,,
来源：液晶与显示 年份：2015
最终关键尺寸是评价薄膜晶体管液晶显示器产品性能的一项重要参数。本文研究了在光源照度变化的条件下得到准确的最终关键尺寸的方法。通过大量的实验测试、数据分析,并配合...
[期刊论文] 作者：王守坤,袁剑峰,郭总杰,郭会斌,刘杰,郑云友,贠向南,李升玄,
来源：液晶与显示 年份：2015
对TFT制作工艺中,TFT有源层刻蚀均一性与电学性质进行分析研究。通过扫描电子显微镜,电学测试设备对样品进行分析。结果显示沟道有源层的刻蚀功率,气体比例及刻蚀压强对有源...
[期刊论文] 作者：王守坤,袁剑峰,郭总杰,郭会斌,刘杰,郑云友,贠向南,李升玄,邵,
来源：液晶与显示 年份：2020
...
[期刊论文] 作者：王守坤,袁剑峰,郭总杰,郭会斌,刘杰,郑云友,贠向南,李升玄,邵喜斌,,
来源：液晶与显示 年份：2015
对TFT制作工艺中,TFT有源层刻蚀均一性与电学性质进行分析研究。通过扫描电子显微镜,电学测试设备对样品进行分析。结果显示沟道有源层的刻蚀功率,气体比例及刻蚀压强对有源...
相关搜索：
