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[学位论文] 作者：钟耕杭,,
来源：北京有色金属研究总院 年份：2017
随着汽车电子,消费电子和物联网市场等多样化芯片需求的快速增长,200mm硅片在半导体市场中有相当高的占有率。随着集成电路特征线宽的不断减小,集成电路制造过程对硅片局部平...
[期刊论文] 作者：宁永铎, 周旗钢, 钟耕杭, 张建, 赵伟, 汪奇,,
来源：稀有金属 年份：
以半导体硅片制备工艺中的酸腐蚀过程为研究对象,采用硅片几何参数检测设备的原始数据为数据源,借助空间统计手段和数据可视化技术,基于实验研究酸腐蚀过程中硅片的转动、外...
[期刊论文] 作者：钟耕杭,宁永铎,王新,路一辰,周旗钢,李耀东,,
来源：稀有金属 年份：2018
抛光后的局部平整度(SFQR)参数是表征硅片抛光质量的重要指标之一,也是抛光过程较难优化的几何参数之一。分析了不同的化学腐蚀处理对抛光后局部平整度的影响。实验结果表明,...
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