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湿法刻蚀FI CD均一性的影响因素及提高刻蚀均一性的研究
[期刊论文] 作者：范学丽,靖瑞宽,翁超,陈启省,王晏酩,肖红玺,刘还平,, 来源：液晶与显示 年份：2016
随着高分辨率产品导入,TFT-LCD阵列段各项参数范围越来越小,工艺要求更为严格,为了更好地管控湿法刻蚀各项参数,本文以湿法刻蚀FI CD(Final Inspection Critical Dimension)...
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