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[期刊论文] 作者：金哲山, 霍建宾, 董杰, 刘晓婷, 胡毓龙,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2004
等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD)设备具有高真空特点,容易发生漏气(Leak)事故,为预防事故发生,对PECVD腔室构造、成膜原理及过程进行深入分析。从原理上检讨通过光谱分...
[期刊论文] 作者：胡毓龙,金哲山,董杰,刘晓婷,霍建宾,
来源：真空科学与技术学报 年份：2021
采用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)法在大尺寸玻璃基板上沉积氮化硅薄膜,对薄膜性能进行了研究,并从微观角度对所得结论进行了进一步分析与讨论.PECVD法在连续沉积氮化...
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