搜索筛选:
搜索耗时0.1148秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 12 篇相符的论文内容
发布年度:
[学位论文] 作者：高建威,
来源：中国科学院大学 年份：2014
高光谱遥感图像具有丰富的光谱、空间、辐射三维信息的独特优势使其在许多应用领域发挥了重要作用。从高光谱图像中进行有效信息提取是高光谱图像处理的关键技术。在高光谱图...
[会议论文] 作者：高建威,蒋应吉,郑兴艳,
来源：第二届全国大学生创新论坛 年份：2009
生物特征因具有很高的普遍性、唯一性和稳定性,一直是安全认证领域研究的热点,然而目前的各种基于生物特征的认证系统都存在安全性和易用性的矛盾,未能得到广泛的应用.本文主要研究和实现了一种融合生物特征与手指静脉网络的智能卡认证系统,这个系统不仅在安全......
[期刊论文] 作者：向鹏飞,邓涛,杨修伟,高建威,,
来源：半导体光电 年份：2014
采用CF4,CHF3,Ar三种工艺气体进行小尺寸CCD接触孔刻蚀实验,研究了不同气体配比、不同射频功率对刻蚀速率、选择比、条宽控制、侧壁形貌等参数的影响。通过优化工艺参数,比较...
[期刊论文] 作者：雷仁方,王艳,高建威,钟玉杰,,
来源：电子科技 年份：2014
针对电荷耦合器件表面暗电流的温度特性和辐照特性进行了研究。研究结果表明,在不同温度下,表面暗电流不仅是CCD总暗电流的主要来源,且是CCD暗电流非均匀性的主要影响因素;CC...
[期刊论文] 作者：向鹏飞,袁安波,杨修伟,高建威,,
来源：半导体光电 年份：2010
CCD晶硅刻蚀相比于传统CMOS工艺的多晶硅刻蚀需要多晶硅对氮化硅更高的刻蚀选择比,更长的过刻蚀时间。采用Cl2+He,Cl2+He+O2,Cl2+He+O2+HBr三种工艺气体组分在Lam4420机台进...
[期刊论文] 作者：赵海娜,吴远峰,高建威,张兵,,
来源：遥感信息 年份：2014
本文提出了基于GPU的高光谱图像贝叶斯并行技术优化算法,通过对高光谱图像分类流程计算复杂度的分析,基于GPU的硬件特性和CUDA编程模型将待分类图像像元映射到计算线程,GPU控制流程逻辑,GPU执行数据级并行计算,并从数据传输和核函数设计两方面进行了优化设计。......
[期刊论文] 作者：高建威,曲鹏程,张晓琴,龙梅,李琳,,
来源：电子技术 年份：2020
背面微透镜技术可以收束入射光的进入范围,理论上可以有效降低像元间的漏光(smear)以及MTF问题。针对某背照CCD器件进行微透镜设计,并对集成了微透镜技术的器件进行对比测试。结果证明该方法可以有效优化器件MTF值。......
[期刊论文] 作者：张路,刘良云,高建威,焦全军,贾建华,,
来源：遥感技术与应用 年份：2016
卫星载荷研制发射后其光谱和空间观测模式固定,无法根据复杂地表的多样化需求进行实时灵活调整,且目前遥感器波段设置尚不完善还存在优化空间。引进基于蚁群优化算法的波段选...
[期刊论文] 作者：李佳,高建威,袁安波,杨修伟,杨洪,
来源：半导体光电 年份：2015
针对大阵列CCD工艺制作过程中光刻大面积图形曝光的需求，提出了一种适用于光刻拼接的图形补偿方法。图形拼接处进行相反的补偿设计0.3μm“凹陷”，曝光时拼接交叠0.3μm。光刻后，图形拼接处平滑、自然过渡，图形整体上拼接自然，较好地解决了光刻大面积图形曝光存在的......
[期刊论文] 作者：高建威,向鹏飞,邓涛,杨修伟,袁安波,,
来源：电子科技 年份：2014
CCD器件曝光过程中会产生各种缺陷,由此会对线宽和图形产生不良影响。文中针对这些缺陷分析了成因并找到相应的解决办法,形成严谨的工艺规范以达到消除缺陷的目的,同时使得工...
[期刊论文] 作者：高建威,韩沛东,向鹏飞,杨修伟,袁安波,,
来源：电子科技 年份：2017
针对CCD器件制作过程中铝布线的光刻工艺质量较差问题,阐述了其产生的原因和对后续刻蚀工艺造成的影响及对器件性能造成的不良结果。文中从改进光刻工艺参数的角度入手进行试...
[期刊论文] 作者：卢凯旋,李国清,陈正超,昝露洋,李柏鹏,高建威,,
来源：中国科学院大学学报 年份：2020
准确提取钢铁厂对去产能监测和环境保护具有重要意义。传统的人工目视解译方法效率低、成本高,无法满足开展大区域钢铁厂监测的需求。以深度学习目标检测网络SSD为基础,构建面向遥感影像钢铁厂提取的深度学习目标检测网络,提出maxout模块,将负样本通路优化为多......
相关搜索：
