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[期刊论文] 作者：徐志兵,黄如全,刘坤,,
来源：人工晶体学报 年份：2016
以人工沸石为载体,采用化学沉积法制备了Ag3PO4/沸石复合物,采用了X-射线衍射仪、扫描电子显微镜对样品进行了表征。以亚甲基蓝溶液作为研究对象,分别在可见光和紫外光照射下...
[期刊论文] 作者：徐志兵, 李静诚, 吴佳佳, 张鹏飞, 黄如全,,
来源：高分子通报 年份：2004
通过核壳乳液聚合法合成了烷基丙烯酸酯磷酸酯改性的丙烯酸乳液,讨论了聚合温度、乳化剂、磷酸酯的加入方式和用量、pH值等因素对乳液合成以及涂膜性能的影响。结果表明:聚合...
[期刊论文] 作者：卢永,汪林,张炜铭,黄如全,冯向文,张孝林,吕振华,
来源：中国给水排水 年份：2023
集成电路行业生产过程中会产生大量含氟废水，随着氟排放标准逐渐提高，采用传统沉淀法已难以满足需求。针对南京市某工业园区污水处理厂集成电路含氟废水，示范项目采用“混凝沉淀-纳米材料吸附”组合工艺进行处理，处理规模为1 000 m~3/d。三个月的运行结果表明，进水氟......
[期刊论文] 作者：卢永,冯向文,汪林,张孝林,张炜铭,吕振华,贾如雪,黄如全,
来源：工业水处理 年份：2022
半导体生产过程中会产生大量含氟废水，传统双钙法除氟工艺对氟的去除程度有限，不能满足日益严格的废水排放标准。为满足出水低于1.5 mg/L的深度除氟要求，对化学沉淀-纳米材料吸附组合工艺深度处理半导体企业含氟废水进行了系统性研究。通过控制变量实验考察了不同......
[期刊论文] 作者：卢永,冯向文,汪林,张孝林,张炜铭,吕振华,贾如雪,黄如全,
来源：工业水处理 年份：2020
半导体生产过程中会产生大量含氟废水，传统双钙法除氟工艺对氟的去除程度有限，不能满足出水低于1.5 mg/L的深度除氟要求。作者系统性研究了化学沉淀-纳米材料吸附组合工艺深度处理半导体企业含氟废水。考察了不同初始pH、药剂量、氟浓度、上柱液pH、共存离子对除......
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