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[期刊论文] 作者：黄晓东 李献杰 赵建宜 齐利芳 周宁,
来源：科技资讯 年份：2016
摘 要：以纳米压印光栅制作为基础，研究了适应纳米压印工艺的对接生长材料结构及生长工艺，生长的材料均匀性好，适合后续器件工艺制作。通过理论设计及实验研究，优化了浅刻蚀有源波导及深刻蚀无源波导的变换结构，降低了器件的转换损耗及回波损耗。结合后续制作的器件，对......
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