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[学位论文] 作者：黄海苟,,
来源：厦门大学 年份：2001
微／纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统(或微机电系统，MEMS)可能迅速崛起和蓬勃发展，成为......
[期刊论文] 作者：黄海苟,叶雄英,
来源：电化学 年份：2000
以微齿轮图形结构作为规模板，用约束刻蚀层技术对ＧａＡｓ样品表面进行了加工刻蚀，在有捕捉剂Ｈ３ＡｓＯ３存在的情况下，规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制，刻蚀结果与没有捕捉剂存在时的刻蚀结......
[会议论文] 作者：孙建军,黄海苟,罗瑾,
来源：第十届全国电化学会议 年份：1999
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[会议论文] 作者：黄海苟,夏善红,孙立宁,
来源：第一届全国纳米技术与应用学术会议 年份：2000
以“金字塔”状的锥体阵列作为电化学模板，利用约束刻剂层技术对半导体GaAs进行加工刻蚀。成功地复制出微孔阵列，并且其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合的很好。...
[会议论文] 作者：田中群,孙建军,黄海苟,程旋,蒋利民,田昭武,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
通过列举电化学在微型机电系统中的应用,表明电化学在MEMS的微加工、微型电源和许多基础问题方面皆大有可为,同时微系统的兴起也为电化学提供新的发展机遇....
[期刊论文] 作者：蒋利民,田中群,刘柱方,毛秉伟,黄海苟,孙建军,
来源：电化学 年份：2002
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特...
[会议论文] 作者：蒋利民,田中群,黄海苟,毛秉伟,孙建军,田昭武,
来源：第十一次全国电化学会议 年份：2001
本文仅就当前所出现的几种电化学微刻蚀方法,进行综合评述....
[会议论文] 作者：蒋利民,田中群,孙建军,黄海苟,田昭武,刘品宽,孙立宁,
来源：第五届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2001
给出了一个用约束刻蚀剂层技术对金属铜进行微区电化学刻蚀的电化学体系,并考查了约束剂的效果以及电流密度对被刻蚀区域显微结构的影响.结果表明,所用约束剂对扩散层有较好...
[会议论文] 作者：蒋利民,田中群,孙建军,黄海苟,刘品宽,孙立宁,田昭武,
来源：第五届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2001
给出了一个用约束刻蚀剂层技术对金属铜进行微区电化学刻蚀的电化学体系,并考查了约束剂的效果以及电流密度对被刻蚀区域显微结构的影响.结果表明,所用约束剂对扩散层有较好的约束作用;在低电流密度下刻蚀时会产生晶界优先腐蚀;一个能产生各向同性刻蚀的电流密......
[会议论文] 作者：黄海苟,孙建军,蒋利民,刘品宽,孙立宁,田中群,田昭武,
来源：第五届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2001
简单介绍了现有的一些抛光技术,着重阐述了一种具有高度距离敏感性的抛光整平技术——约束刻蚀剂技术的原理.并利用该技术以光滑的微圆盘电极Pt作模板,对粗糙的GaAs表面进行抛光平整,获得了表面粗糙度为3.5nm的平整表面,显示了该技术作为一种平面抛光手段的潜力......
[会议论文] 作者：刘品宽,曲东升,张秀峰,孙立宁,孙建军,黄海苟,田昭武,夏善红,
来源：第五届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2001
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.文章根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发.利用研制的加工仪器,用同一模板,在半导体GaAs进行刻蚀加工,成功地复制......
[期刊论文] 作者：黄海苟,孙建军,叶雄英,蒋利民,罗瑾,卢泽生,董申,田中群,周兆英,田昭武,
来源：电化学 年份：2000
以微齿轮图形结构作为规整模板 ,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀 .在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下 ,规则微齿轮图形能够很好地在样品表面复制 .刻蚀结果与没...
[会议论文] 作者：孙建军,黄海苟,田中群,田昭武,蒋利民,罗瑾,穆纪千,叶雄英,周兆英,张涛,孙立宁,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文简要介绍了电化学应用于微系统技术中的几个例子,着重介绍了约束刻蚀剂层技术(CELT)在微加工方面的最新研究进展,用规整微结构模板对半导体材料的加工刻蚀....
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