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[期刊论文] 作者：David W.Price,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
监控和消除隐藏的电路缺陷已成为130 nm和130 nm以下器件的关键.这使得电子束检查正在广泛应用于开发、试生产和量产的监控过程.我们将描述当前铜逻辑和晶圆代工厂电子束检查...
[期刊论文] 作者：David W.Price,Todd Henry,Robert Fiordalice,
来源：电子工业专用设备 年份：2005
监控和消除隐藏的电路缺陷已成为130nm和130nm以下器件的关键。这使得电子束检查正在广泛应用于开发、试生产和量产的监控过程。我们将描述当前铜逻辑和晶圆代工厂电子束检查...
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