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[期刊论文] 作者：Dominic LEBLANC,Karol PUTYERA,
来源：中国有色金属学报：英文版 年份：2011
硅片或硅块的电阻率与掺杂浓度的关系模型不适用于补偿硅，如精纯冶金级硅（UMG-Si）。目前尚无合适的理论模型可以准确解释补偿硅实验和观测结果间存在的差异。基于电解液理论提出......
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