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[期刊论文] 作者：G.E.McGuire,欧福贤,,
来源：半导体情报 年份：1980
半导体生产中的光刻工艺要求使用能确定器件某种特征的高质量的掩模材料。除了要求掩模材料能阻挡光刻操作所必需的光化辐射外(主要是紫外线),对掩模材料的要求可能是完全不...
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