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[期刊论文] 作者:H.vamanaka,李伟,, 来源:微处理机 年份:1980
本文介绍短沟道Si—栅MOS大规模集成电路的一种新的制造工艺技术。该工艺技术的特点在于用两个单一的磷扩散工艺,形成源和漏区并把磷扩散进多晶硅。其特点也在于在掺磷和非掺...
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