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[期刊论文] 作者：L.Leseusky,R.J.Tieram,L.H.Tidale,忻松义,,
来源：电子管技术 年份：1975
高强度、低损耗Al_2O_3窗,无渗透溅散金属化和新的二次电子倍增抑制涂层为有效地提高平均功率和增加微波窗的靠可性提供了可能。与目前采用的窗相比较,新窗具有高50％的抗弯强...
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