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[期刊论文] 作者：叶志镇,Z．H．Zhou,R．Reif,
来源：真空科学与技术 年份：1994
为实现低温低压外延新工艺，建立了一台具有多项原位监控功能的新颖的超高真空CVD（chemicalvapordeposition）外延设备，并用此设备，（100）和（111）硅片分别在550℃和650℃下由硅烷热解法成......
[期刊论文] 作者：叶志镇,Z.Zhou,R.Reif,
来源：真空科学与技术 年份：1995
本文研究了超高真空低温硅外延中，ＥＣＲ微波等离子原位溅射清洗对外延层界面损伤的情况。超高分辨透射电镜照片表明，界面引起的损伤是较严重的损伤层的宽度与衬底偏压的高低和溅射时......
[会议论文] 作者：Juan M.Lema,Sonia Suárez,R.Reif,Marta Carballao,Francisco Omil,
来源：13th International Biotechnology Symposium and Exhibition(第1 年份：2008
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