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[期刊论文] 作者：SM. Silaimani, P. Veeramani, K,
来源：电镀与涂饰 年份：2003
赫尔槽实验可以在很宽的电流密度范围内提供电沉积过程的信息,但受到溶液搅拌的限制。旋转圆筒赫尔槽利用旋转圆筒作阴极,消除了常规赫尔槽在搅拌处理的不足。本文利用旋转圆...
[期刊论文] 作者：SM. Silaimani,P. Veeramani,K.N.S,
来源：电镀与涂饰 年份：2020
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