采用高频磁控溅射法制备了Si基（Pb1-xSrx）TiO3系铁电薄膜（以下简称PST／Si）。实验表明，合适的Ar、O2分压比，能保证溅射时挥发出的Pb及时与......

采用磁控溅射制备了Si基（Pb1-Srx）TiO3（简称PBT／Si）薄膜。测试表明，热处理工艺对PST／Si薄膜介电特性有着一定的影响，适当温度、适当时间的......