亚微米线条相关论文
A novel direct writing technique using submicron-diameter fibers is presented. This technique adopts contact mode in the......
提出了一种利用微纳光纤笔(MNFP)直接写入亚微米线条的技术,利用微纳光纤笔在光刻胶表面接触式扫描,从而曝光产生亚微米线条。热熔......
该文以这几年为用户提供线宽CD为0.4um，公差要求±0.1um的掩模版，通过不断的实验，阐述了线宽为深亚微米的制作与普通线宽的制作，从数据......
该文提出了一种修正电子束直写／制版时邻近图形对深亚微米线条的影响的算法。通过一组简单图形的电子束暴光测得不同宽度的图形对不......
本文介绍利用普通接触式曝光系统和等离子刻蚀机来制作亚微米线条。基本工艺是用深紫外线作为光源，对曝光后的光刻胶在ＨＭＤＳ或ＴＭＤＳ气氛下加热......
本文根据惠更新-菲涅耳原理,研究了提高光刻分辨率,提高光刻套准精度和在制版困难的条件下光刻亚微米线条的几种方法;并用实验证实......
