假栅相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

假栅相关论文

超深亚微米自对准平面双栅MOSFET假栅的制作

进入超深亚微米领域以后,传统CMOS器件遇到了器件物理、工艺技术等方面难以逾越的障碍.普遍认为,必须引入新结构和新材料来延长摩......

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双栅MOSFET 自对准亚微米工艺假栅 Double-gate MOSFET Self-alignment Sub-micron process Repla

金属栅回刻平坦化技术

随着CMOS集成电路技术节点缩减到45 nm及以下,高K金属栅(HK/MG)的后栅集成工艺已逐渐成为先进集成电路制造中的主流技术。其中金属......

期刊

金属栅假栅旋转涂布玻璃等离子回刻平坦化

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