光谱椭偏仪相关论文
椭偏仪通过探测偏振光与待测样品反应前后偏振态的改变来获取样品的几何形貌和光学信息,具有快速准确、非接触无损伤、低成本和易......
单旋转补偿器型椭偏仪随着其硬件水平和测量精度的逐步提升,获得了广泛的应用,其硬件水平包括光源的稳定性、偏振调制运动控制、以......
光谱椭偏数据分析是基于模型的分析方法,建立光学模型模拟被测样品,通过比较椭偏测量数据和模型生成的数据,对模型参数进行迭代优......
本文简要介绍GES5型光谱椭偏仪的工作原理，详述该光谱椭偏仪的校准项目、校准设备以及校准方法，介绍了该椭偏仪的FTIR标定，GES5型光谱......
光谱椭偏仪是常用的测量薄膜厚度及材料光学性质的仪器，其准确性主要由系统的校准过程确定。提出一种新的利用标准样品校准光谱椭偏......
双片零级波片和消色差波片是双片波片贴合的补偿器，双片波片中的光轴对准精确度影响波片的偏振调制。提出一种精密检测贴合式双片波......
立方碳化硅(3C-SiC)薄膜通过化学气相沉积(CVD)制备在Si(100)衬底上。本论文主要通过椭偏光谱仪(SE)和拉曼散射仪对3C-SiC薄膜的微......
光谱椭偏仪被用来研究用脉冲激光沉积方法在Si(100)基片上,温度分别为400,500,600,700℃制备的ZnO薄膜的特性。利用三层Cauchy散射......
设计了一种新型的光谱涂层,使用Ti0.5Al0.5N和Ti0.25Al0.75N作为吸收层,AlN作为减反射层.采用光谱椭偏仪拟合了各层的折射率和消光......
本文采用精密测角法测量光学材料的折射率，通常需要将被测量的光学材料加工成一定形状的块状样块，因此无法对尺寸较小的光学材料......
本文采用离子束溅射工艺沉积得到光伏新材料——非晶氮化碳薄膜,并用变角光谱椭偏仪测试其光学性质.......
随着半导体器件需求不断提高,薄膜制备工艺逐步成熟,科研工作者的研究方向也逐步由常规厚度HfO2薄膜的性能改善转变为10 nm以下的......
利用旋转双补偿器技术建立的实时Mueller 矩阵多通道光谱椭偏仪,将通过实时多通道Mueller 矩阵光谱椭偏术在1 秒内得到光子能量范......
会议
光学散射测量技术由于具有测量速度快、成本低、非破坏和易于集成等优点,目前已经发展为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测......
光谱椭偏仪被用来研究用脉冲激光沉积方法在Si（100）基片上,温度分别为400,500,600,700℃制备的ZnO薄膜的特性。利用三层Cauchy散射模......
立方碳化硅（3C-SiC）薄膜通过化学气相沉积（CVD）制备在Si（100）衬底上。本论文主要通过椭偏光谱仪（SE）和拉曼散射仪对3C-SiC薄膜的微观结构和......
本文通过光谱椭偏仪测量浮法玻璃空气面和锡面的偏振信息,利用Cauchy光学模型分析得到浮法玻璃两表面的布鲁斯特角和光学常数,分析......
光谱椭偏测量技术已广泛应用于材料科学、微电子、物理化学和生物医学等领域。在光谱椭偏测量系统中,由于起偏器和检偏器存在漏光......
椭偏法在材料的光学性质和薄膜厚度检测中发挥着重要的作用,椭偏测量也已纳入很多高校的实验教学内容。针对实验教学中原理展示性......
光谱椭偏仪是一种利用偏振光学原理来测量薄膜样件的精密光学仪器,通过对光谱椭偏测量数据的分析,可以获得有用的薄膜光学特性和膜......
精确测量各种功能薄膜的厚度在微机电系统（MEMS）制造加工过程中有非常重要的意义。利用接触式表面轮廓仪、光谱椭偏仪、电感测微仪、......
研究了沉积时真空室真空度、基片温度和沉积速率对常用电子束蒸发非晶硅（a-Si）光学薄膜的折射率和消光系数的影响。结果表明，在300～110......
