随着硅基集成电路的飞速发展，目前的主流工艺已到达了14nm，并将缩小至10nm以内。MOS管的特征尺寸和线宽进一步缩小，使得基于光刻的制......

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CMOS纳米分子混合电路(CMOS/nanowire/MOLeclular hybrid circuits,CMOL)在制造过程中会引入较高缺陷率,从而导致可用映射资源的减......