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反常刻蚀相关论文
辉光放电磁控溅射靶材利用率和刻蚀均匀性方法研究与进展
磁控溅射靶表面磁场的非均匀分布使靶的溅射性能受到了靶材利用率低和刻蚀均匀性差的制约,因此寻求一种较高靶材利用率且在靶材表......
期刊
磁控溅射
靶材
利用率
刻蚀均匀性
磁极结构优化
磁场
反常刻蚀
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