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基于光刻模型的动态自适应切分OPC
光学邻近校正(OPC)技术已经成为纳米级半导体工艺技术中的一个关键.目前在OPC中多边形的切分算法均基于配方(recipe),但随着特征线宽减......
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光学邻近校正
可制造型设计
动态切分
光刻模型
OPC
DFM
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在深亚微米技术节点,成品率设计,尤其是版图设计阶段的成品率设计是解决可制造性问题和成品率问题的重要途径。为了减少由冗余物缺陷......
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