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多弧直流磁控溅射相关论文
纳米Cu3 N薄膜的制备与性能
采用柱状靶多弧直流磁控溅射法 ,10 0℃基底温度下在玻璃衬底上制备了纳米氮化铜 (Cu3N)薄膜 .用x射线衍射研究了不同氮气分压对Cu......
期刊
氮化铜薄膜
多弧直流磁控溅射
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