采用蒸发淀积、快速热退火（ＲＴＡ）等技术，通过Ｔｉ／Ｓｉ、Ｔｉ／多晶硅固相反应，形成高电导均匀的ＴｉＳｉ＿２薄膜，并将这种钛硅化物形成技术应用于浅结多晶硅发射极工艺......