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工艺空间均匀性相关论文
利用分步试验设计表征/优化工艺空间均匀性
半导体制造工艺成品率对空间差异越来越敏感,需要表征与优化工艺空间均匀性。利用两步试验设计方法,针对六输入变量的热氧化工艺,仅需......
期刊
半导体工艺
工艺空间均匀性
分步试验设计
响应曲面模型
Semiconductor process
Process spatial uniformity
S
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