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微晶硅(μc-Si:H)薄膜相关论文
器件质量级微晶硅薄膜光稳定性研究
利用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)技术,通过改变SiH4浓度制备了一系列不同晶化率(Xc)的本征Si薄膜材料。通过测量其Raman谱和......
期刊
射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)
微晶硅(μc-Si:H)薄膜
稳定性
RF-PECVD microcrystalline silicon(μc
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