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平面型RTD制作过程中的两个关键工艺
采用n^+GaAs衬底和自对准B离子注入技术制作了平面型共振隧穿二极管,深入讨论其制作过程中几个关键问题,包括离子注入能量与剂量的......
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平面型共振隧穿二极管
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