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扩散连接结构相关论文
氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征
在真空不低于1.5×10-3Pa,温度为600℃,压强为30MPa,保温2h的条件下进行了Si3N4/Al的扩散连接.微观分析表明,连接的Si3N4/Al的......
期刊
氮化硅/铝
扩散连接结构
界面断裂特征
结构陶瓷
Si3N4/Al interfacediffusion bondinginterface fracture
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