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抛光损伤相关论文
硅片抛光工艺质量微细差别的椭偏光谱法鉴别
用椭偏光谱研究了硅片抛光的表面质量.假设一个四相模型,对测量数据进行分析处理.结果表明,(ⅰ)用带间光谱的E_1结构,可以分辨表层......
期刊
抛光工艺
光谱术
抛光损伤
介电函数
椭偏光谱术
光损伤
四相
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光谱
光谱法
大抛光模平面磁流变抛光损伤机理及工艺研究
现代光电通讯和集成电路等产业的发展对超光滑表面提出了极高的要求,不仅要求表面粗糙度达到原子级别,同时还要求极低的亚表面损伤......
学位
大抛光模
磁流变抛光
超光滑表面
塑性变形层
抛光损伤
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