有机沾污相关论文
本文对继电器中由于有机沾污的存在而引起的接触不良失效从现象及机理上进行了分析研究，通过微观观察及成分分析，有机沾污引起接触电......
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子(P2O84-),并将此方式作为金刚石膜电化学清洗......
研究了化学机械抛光(CMP)后AlN单晶片的清洗.将除蜡剂清洗法、RCA清洗法、食人鱼溶液清洗法以及丙酮和异丙醇(IPA)的混合溶液清洗......
用飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)结合X射线光电子能谱,分析了用化学方法清洗后银片上残留的未知有机物.TOF-SIMS与XIPS提供的互......
ＴＯＦ－ＳＩＭＳ提供了一个探测和分析微芯片键合点上有机沾污的有力手段。分析比较了两个集成电路芯片上钻键合点的ＴＯＦ－ＳＩＭＳ二次离子谱，其中一个芯片经目检......
会议
铝键合点的表面沾污增强了对铝合金化表面的腐蚀，并导致微芯片的失效。过去大量的工作多集中在由等离子工艺引起的含氟的无机沾污；很......
铝键合点的表面沾污增加了对装饰品合金化表面的腐蚀，并可能导致微芯片的失效。过去大量的研究工作多集中在键合点上由等离子工艺引......
用飞行时间二次离子质谱结合Ｘ射线光电子能谱，分析了用化学方法清洗后银片上残留的未知有机物。ＴＯＦ－ＳＩＭＳ与ＸＰＳ提供的互补的表面信息显示，中分子量......
采用金刚石膜电极的电化学方式在专用水基清洗剂中不断产生强氧化剂过氧焦磷酸根离子（P2O8^4-），并将此方式作为金刚石膜电化学清洗工......
