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硅的反应离子刻蚀小信号发射光谱法终点检测
本实验用CF_4进行硅的反应离子刻蚀,并用发射光谱法进行终点检测。在可见光范围内进行了全谱扫描,找到与国外报导一致的最灵敏线70......
期刊
反应离子刻蚀
发射光谱法
可见光范围
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光谱变化
本底发射
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