束流密度相关论文
辐射束流密度的精确测量是ILU-6电子加速器在材料和器件辐射中应用的重要基础。本文对所研制的一种新型法拉第筒脉冲电子束流测量......
相较于固体或薄膜靶材料，金属纳米团簇束流具有与支撑介质无接触等特点，在与超短超强激光的相互作用过程中仅表现出金属纳米团簇物质......
在空间活动中,除了要考虑空间环境中大温差(-100℃～100℃)、高真空(10-12 Da)以外,强光照和高速带电粒子都是影响飞行器器件正......
用锥形玻璃毛细管聚焦离子束的方法获取微米离子束具有成本低、使用方便的特点,我们制备了出口口径20～100μm不等的多种锥形玻璃毛......
在大尺寸光栅元件离子束刻蚀技术中,改善离子束流密度均匀性是研制离子束刻蚀系统的关键技术之一.通过简介6×66cm RF条形宽束离子......
本文介绍正在研制的一台强流ECR离子源.它的目标是用于加速器驱动的次临界系统(ADS).两种结构的离子源均获得了较好的结果.在30keV......
本文介绍正在研制的强流微波离子源.它的目标是用于加速器驱动的次临界系统(ADS).研制的两种结构的离子源均获得了较好的结果.在30......
用ＭＥＶＶＡ离子源将Ｌａ离子注入到单晶硅中形成掺杂层，用ＸＲＤ、ＳＥＭ分析了掺杂层的物相和表面形貌。分析表明在强流离子注入后，掺杂层中有硅化物形成，且形......
空间模拟用低能质子束装置为大面积粒子束装置，其主要技术指标为：能量３０ＫｅＶ～５０ＫｅＶ连续可调，束流密度１０〈’８〉～１０〈’１１〉个／ｃｍ〈’２〉．ｓ，束直径大于１５０ｍｍ，束流密度的不......
随着强流脉冲离子束(HIPIB：High Intensity Pulsed Ion Beams)在表面改性方面逐渐体现出的显著优势，国内外的表面工程学者越来越对其......
随着超短超强激光的不断发展,团簇与激光相互作用引起研究者的广泛关注。团簇的自身特性对激光与团簇相互作用效果影响很大。束流......
学位
离子束辐射能够在多种半导体材料表面产生具有一定周期性的自组织纳米结构。由于该方法对设备要求不高，工艺流程简单，且利用该方法制......
束流密度分布模型公式对了解推力器羽流场下游比较大范围内的束流特性,以及在工程应用中对评估离子推力器对舱体的溅射污染效应有......
根据自行研制的法拉第杯对离子束抛光(IBF)机床中离子束束流密度进行检测,通过束流密度检测实验与去除函数实验的对比,验证了该法......
介绍一个达用于光学镀膜用的直径为φ120mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数，并地影响束密均匀性的因素进行了讨论。......
研究了应用于航天器表面的环氧树脂材料在不同温度时的表面带电程度，通过设置不同的束流密度，研究了温度、电子束流密度变化对环氧树......
为了研究温度、等离子体环境变化对航天器表面介质材料充电水平的影响，利用研制的温度可控航天器介质材料表面带电综合实验系统，对聚......
主要介绍一套基于LabVIEW平台设计的高能质子束流密度分布测试系统,服务于电子器件抗辐射加固试验,用于加速器的辐射剂量测量;它由......
本文依据金属的索未菲自由电子模型的量子统计理论结果，对提高考夫曼型离子源束流密度进行了研究，取得了一些有价值的结果。......
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采用TIA-450自绝缘二极管碳离子加速器对T5K10刀具进行了强流脉冲离子束辐照表面处理,加速器的加速电压为250 keV,束流密度为60 A/......
采用离子束溅射技术在Si基底上自组织生长了一系列Ge量子点样品,研究了束流密度对Ge/Si量子点的尺寸分布和形貌演变的影响。原子力......
离子柬辅助镀膜沉积过程中，绝缘薄膜表面的电荷积累效应严重影响了薄膜质量。通过对宽束冷阴极离子源引出栅部分的改进，采用分时引出......
束流发射率和束流亮度是表征加速器束流品质的主要指标。理论和实验研究都已发现，它们与束流空间电荷的非均匀分布有密切关系。......
本文介绍了利用离子束抛光方法获得石英和单晶硅两种材料的超光滑表面，利用原子力显微镜（ＡＦＭ）进行该类表面微观形貌的测试工作。这种加工......
采用软光刻技术中的微接触印刷(μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构......
简要分析了反映高能注量电子束品质的主要参数在诊断上的技术困难,重点介绍了高能注量电子束参数诊断的三种参数的测量方法,包括内......
作者利用中国第一台金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA源)引出的钼离子对HI3钢进行了不同束流密度下的离子注入。根据此源的特点,提出了......
本发明公开了一种碲镉汞材料在离子注入形成P—N结过程中对材料产生损伤的修复方法。该方法只需在常规的碲镉汞材料离子注入形成P......
本文首先对离子蚀刻的原理和用途作了简短的介绍，接着介绍了ＬＳＫ－６００型离子蚀刻机的设计原 则和结构设计，最后介绍了蚀刻机的实验结果。......
<正> 从1977年开始对离子束刻蚀作了一些初步地探索。先后做过束径为φ20mm,φ84mm和φ135mm的离子束刻蚀装置,并作了一些刻蚀试验......
采用离子辅助沉积的方法,分别以T iO2和T i3O5为初始膜料在K 9玻璃上制备了氧化钛薄膜,并研究了离子束流密度对以T i3O5为膜料制备......
超低损耗薄膜在光学仪器中得到了越来越广泛的应用。离子束辅助沉积技术是在真空镀膜的基础上发展起来的,克服了传统热蒸发技术存......
为了研制具有高性能的离子源,进而获得高质量的加工工艺,用自制的法拉第筒对清洗刻蚀源均匀性进行了测试,分析了影响离子束均匀性......
目的研究多因素条件下航天用典型介质材料聚酰亚胺表面充电特性。方法利用空间介质材料表面带电地面模拟实验系统,以电子枪辐照材......
