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极端紫外光刻相关论文
50 nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究
极端紫外光刻(EUVL)作为实现100~32nm特征尺寸微细加工的优选技术,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计......
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