栅介质膜相关论文
通过具有各种串联电路的MOS电容的分析测试表明:串联电阻引起MOSC-V特性畸变,失真,并与介质膜电容大小有关;串联电容使MOSC-V特性严重不稳定;而当存在电......
在PECVD法低温制备优质薄膜技术中,改变衬底温度、反应室气压、混合气体组份,过以用退火致密工艺,制备富氮的SiOxNy栅介质膜样品,采用准静态C-V和高频......