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样品偏转角相关论文

直流磁控溅射离子镀镀层厚度均匀性表征及研究

本文通过改变靶基距及样品与靶面偏转角等实验参数，采用直流磁控溅射离子镀技术在三种（1＃:角α=60°，2#:角α=90°，3#:凹角α=60°）样品......

学位

磁控溅射膜厚均匀性靶基距样品偏转角

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