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氮氧化铪薄膜相关论文
氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和力学性能的影响
采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光......
期刊
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HfOxNy thin films RF reactive magnetron sputterin
氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和光学性能的影响
用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行,衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温......
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