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流变抛光相关论文
磁流变抛光入口区域剪切力场形成机制数值分析
平面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的曲率半径不同会使磁流变抛光入口区域剪切力场发生变化.为......
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流变抛光
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蓝宝石磁流变化学机械抛光工艺研究
针对超光滑平面蓝宝石衬底片存在亚表层损伤的问题,文中利用磁流变抛光技术进行蓝宝石衬底片抛光以满足现有生产需要,研究了磁流变......
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