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本文将硅离子注入到热氧化生长的二氧化硅层,分别进行常规退火和快速退火制得含纳米晶硅薄膜。在室温下测量了样品的光致发光谱及......
离子注入在太阳电池上发展已比较成熟,特别是磷注入在p型量产电池上的应用也非常广泛和成功,但在n型电池上的应用并不多见.基......
该文用ＳＦ６和ＣＨＦ３气体对热氧化生长的ＳｉＯ２进行等离子刻蚀新工艺研究，根据ＳＦ６和ＣＨＦ３对二氧气硅及硅刻蚀速率和选择性的不同，采用ＳＦ６∶ＣＨＦ３为１∶１．５和１∶２５两种流量比，经过......
该文针对当前等离子涂层(热障涂层)中存在的关键问题进行了研究.第一篇以氧化锆热障涂层为研究对象,在基体待喷表面进行激光熔覆处......
