生长速率基片温度相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

生长速率基片温度相关论文

原子层沉积的研究及其计算机仿真

原子层沉积(ALD)的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀，因而引......

学位

原子层沉积原子层沉积生长速率生长速率基片温度基片温度计算机仿真计算机仿真薄膜生长薄膜生长

看过本文同时还关注