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预曝光对于连续浮雕微结构制作的影响
简述了预曝光在极坐标激光直写法制作连续浮雕微结构技术中的作用原理及应用,研究了预曝光技术对于连续浮雕微结构制作的影响规律,......
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"直写法"求解静不定连续梁
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二元光学元件的制作技术与进展
综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法.分析了这些方法......
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