在30kW级直流电弧等离子体喷射化学气相沉积(DC Arc P lasm a Jet CVD)设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过调节甲烷浓度以及控制其......

为制备高质量的声表面波器件,探索金刚石薄膜的沉积工艺,采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术和特殊的复合衬底技术,在单晶......

不同工艺条件下在钼衬底(φ60mrn)上用100kW直流电弧等离子体喷射化学气相沉积设备进行金刚石膜的制备。金刚石膜用扫描电镜(SEM)......

在30kW级直流电弧等离子体喷射化学气相沉积（Dc Arc Plasma Jet CVD）设备上，采用Ar-H2-CH4混合气体，通过调节甲烷浓度以及控制其他沉积......

从上世纪90年代开始,CVD金刚石膜沉积技术快速发展,到目前为止,除部分力学性能外,CVD多晶金刚石膜的各种性能已经可以媲美天然金刚......