相位移掩膜相关硕士博士期刊学术论文 - 信丰网

相位移掩膜相关论文

影响PSM工艺产品良率因素的研究

文章围绕实际工作中遇到的0.13μm Logic产品的良率问题展开。主要通过分析比较相位移掩膜工艺和传统铬膜工艺的优缺点，找出可能导......

期刊

良率相位移掩膜光阻显影扫描式曝光光学邻近效应 yield PSM BIN resist CD OPC

光阻膜厚与前层图形对于多晶硅关键尺寸影响的研究

目前整个IC制造工艺中关键尺寸从0.35微米大幅进步到0.18微米之后,已迈向0.13微米,整个技术仍然继续朝着关键尺寸进一步微细化方向......

学位

成品率相位移掩膜光刻胶碟形摆动曲线光学邻近效应

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