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期刊
随着集成电路工艺的不断发展,芯片集成度不断提高的同时器件的特征尺寸却不断减小,这样杂质对于器件的危害就显得异常突出。集成电......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
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